近日，中国大陆的半导体行业传来了一则重磅消息：中国大陆自主研发的浸润式DUV光刻机取得突破性进展，这意味着中国大陆未来将不再依赖外国厂商的光刻机，而是拥有了自己的核心技术，为5nm芯片的制造提供强大的支撑。     浸润式DUV光刻机是目前最先进的光刻技术之一，它使用193nm的深紫外光源，在光刻胶和镜头之间注入纯水，通过折射降低光线的等效波长，从而实现更高的分辨率和精度。浸润式DUV光刻机可以用于制造7n...